Penapis UV dalam Pasaran Penjagaan Matahari

Pelindung matahari bukan organik Kekuatan & Kelemahan

Kekuatan	Kelemahan
Selamat / tidak merengsa	Persepsi estetika yang buruk (rasa kulit dan pemutihan pada kulit)
Spektrum luas	Serbuk boleh menjadi sukar untuk dirumuskan
SPF tinggi (30+) boleh dicapai dengan satu aktif (TiO2)	Bahan bukan organik telah terperangkap dalam perdebatan nano
Penyerakan adalah mudah untuk digabungkan
Jadual foto

Aplikasi Pelindung Matahari Bukan Organik
Pelindung matahari bukan organik sesuai untuk sebarang aplikasi perlindungan UV kecuali formulasi yang jelas atau semburan aerosol. Ia amat sesuai untuk penjagaan matahari bayi, produk kulit sensitif, produk yang membuat tuntutan "semulajadi", dan kosmetik hiasan.
Penapis UV tak organik Jenis Kimia

Titanium Dioksida
• Terutamanya penapis UVB, tetapi beberapa gred juga memberikan perlindungan UVA yang baik
• Pelbagai gred tersedia dengan saiz zarah yang berbeza, salutan dsb.
• Kebanyakan gred jatuh ke dalam bidang nanopartikel
• Saiz zarah terkecil sangat telus pada kulit tetapi memberikan sedikit perlindungan UVA; saiz yang lebih besar memberikan lebih perlindungan UVA tetapi lebih memutihkan pada kulit

Zink Oksida
• Terutamanya penapis UVA; keberkesanan SPF yang lebih rendah daripada TiO2, tetapi memberikan perlindungan yang lebih baik daripada TiO2 di kawasan "UVA-I" panjang gelombang panjang
• Pelbagai gred tersedia dengan saiz zarah yang berbeza, salutan dsb.
• Kebanyakan gred jatuh ke dalam bidang nanopartikel

Prestasi / matriks Kimia

Kadar dari -5 hingga +5:
-5: kesan negatif yang ketara | 0: tiada kesan | +5: kesan positif yang ketara
(Nota: untuk kos dan pemutihan, "kesan negatif" bermaksud kos atau pemutihan meningkat.)

	kos	SPF	UVA Perlindungan	Rasa Kulit	Memutihkan	Kestabilan foto	air Rintangan
Benzofenon-3	-2	+4	+2	0	0	+3	0
Benzofenon-4	-2	+2	+2	0	0	+3	0
Bis-ethylhexyloxyphenol Methoxyphenyl Triazine	-4	+5	+5	0	0	+4	0
Butyl Methoxy-dibenzoylmethane	-2	+2	+5	0	0	-5	0
Diethylamino Hydroxy Benzoyl Hexyl Benzoate	-4	+1	+5	0	0	+4	0
Diethylhexyl Butamido Triazone	-4	+4	0	0	0	+4	0
Disodium Phenyl Dibenzimiazole Tetrasulfonate	-4	+3	+5	0	0	+3	-2
Etilheksil Dimetil PABA	-1	+4	0	0	0	+2	0
Ethylhexyl Methoxycinnamate	-2	+4	+1	-1	0	-3	+1
Ethylhexyl Salicylate	-1	+1	0	0	0	+2	0
Ethylhexyl Triazone	-3	+4	0	0	0	+4	0
Homosalate	-1	+1	0	0	0	+2	0
Isoamil p-Methoxycinnamate	-3	+4	+1	-1	0	-2	+1
Menthyl Anthranilate	-3	+1	+2	0	0	-1	0
4-Methylbenzylidene Camphor	-3	+3	0	0	0	-1	0
Metilena Bis-Benzotriazolyl Tetramethylbutylphenol	-5	+4	+5	-1	-2	+4	-1
Octocrylene	-3	+3	+1	-2	0	+5	0
Asid Sulfonat Phenylbenzimidazole	-2	+4	0	0	0	+3	-2
Polisilikon-15	-4	+1	0	+1	0	+3	+2
Tris-bifenil Triazine	-5	+5	+3	-1	-2	+3	-1
Titanium Dioksida – gred lutsinar	-3	+5	+2	-1	0	+4	0
Titanium Dioksida – gred spektrum luas	-3	+5	+4	-2	-3	+4	0
Zink Oksida	-3	+2	+4	-2	-1	+4	0

Faktor-faktor yang Mempengaruhi Prestasi Penapis UV

Atribut prestasi titanium dioksida dan zink oksida berbeza-beza bergantung pada sifat individu gred khusus yang digunakan, cth. salutan, bentuk fizikal (serbuk, serakan berasaskan minyak, serakan berasaskan air).Pengguna harus berunding dengan pembekal sebelum memilih gred yang paling sesuai untuk memenuhi objektif prestasi mereka dalam sistem penggubalan mereka.

Keberkesanan penapis UV organik larut minyak dipengaruhi oleh keterlarutannya dalam emolien yang digunakan dalam perumusan. Secara amnya, emolien polar adalah pelarut terbaik untuk penapis organik.

Prestasi semua penapis UV sangat dipengaruhi oleh tingkah laku reologi formulasi dan keupayaannya untuk membentuk filem yang sekata dan koheren pada kulit. Penggunaan pembentuk filem dan bahan tambah reologi yang sesuai selalunya membantu meningkatkan keberkesanan penapis.
Gabungan Menarik Penapis UV (sinergi)

Terdapat banyak kombinasi penapis UV yang menunjukkan sinergi. Kesan sinergi yang terbaik biasanya dicapai dengan menggabungkan penapis yang saling melengkapi dalam beberapa cara, contohnya:-
• Menggabungkan penapis larut minyak (atau ditabur minyak) dengan penapis larut air (atau ditaburkan air)
• Menggabungkan penapis UVA dengan penapis UVB
• Menggabungkan penapis bukan organik dengan penapis organik

Terdapat juga kombinasi tertentu yang boleh menghasilkan faedah lain, contohnya diketahui umum bahawa octocrylene membantu menstabilkan foto-foto penapis tertentu seperti butyl methoxydibenzoylmethane.

Walau bagaimanapun, seseorang mesti sentiasa mengambil kira harta intelek dalam bidang ini. Terdapat banyak paten yang meliputi gabungan tertentu penapis UV dan perumus dinasihatkan untuk sentiasa menyemak bahawa kombinasi yang mereka ingin gunakan tidak melanggar mana-mana paten pihak ketiga.

Pilih penapis UV yang Tepat untuk Formulasi Kosmetik anda

Langkah berikut akan membantu anda memilih penapis UV yang betul untuk formulasi kosmetik anda:
1. Tetapkan objektif yang jelas untuk prestasi, sifat estetik dan tuntutan yang dimaksudkan untuk perumusan.
2. Semak penapis yang dibenarkan untuk pasaran yang dimaksudkan.
3. Jika anda mempunyai casis rumusan khusus yang anda ingin gunakan, pertimbangkan penapis yang sesuai dengan casis tersebut. Walau bagaimanapun, jika boleh adalah yang terbaik untuk memilih penapis terlebih dahulu dan mereka bentuk formulasi di sekelilingnya. Ini benar terutamanya dengan penapis organik bukan organik atau zarah.
4. Gunakan nasihat daripada pembekal dan/atau alat ramalan seperti Simulator Pelindung Matahari BASF untuk mengenal pasti kombinasi yang sepatutnyamencapai SPF yang diharapkandan sasaran UVA.

Gabungan ini kemudiannya boleh dicuba dalam formulasi. Kaedah ujian in-vitro SPF dan UVA berguna pada peringkat ini untuk menunjukkan kombinasi yang memberikan hasil terbaik dari segi prestasi - maklumat lanjut tentang aplikasi, tafsiran dan had ujian ini boleh dikumpulkan dengan kursus e-latihan SpecialChem:UVA/SPF: Mengoptimumkan Protokol Ujian anda

Keputusan ujian, bersama-sama dengan keputusan ujian dan penilaian lain (cth. kestabilan, keberkesanan pengawet, rasa kulit), membolehkan perumus memilih pilihan terbaik dan juga membimbing perkembangan lanjut formulasi.