Penapis UV di Pasar Penjagaan Matahari

Kekuatan & Kelemahan Pelindung Pelindung Suria Bukan Organik

Kekuatan	Kelemahan
	Persepsi estetika yang lemah (kulit dan pemutihan pada kulit)
Spektrum yang luas
SPF tinggi (30+) dapat dicapai dengan aktif tunggal (TiO2)	Inorganik telah terperangkap dalam perdebatan nano
Penyebaran mudah dimasukkan
Fotostable

Pelindung matahari bukan organik sesuai untuk sebarang aplikasi perlindungan UV kecuali formulasi yang jelas atau semburan aerosol. Mereka sangat sesuai untuk penjagaan matahari bayi, produk kulit sensitif, produk yang membuat tuntutan "semulajadi", dan kosmetik hiasan.
Jenis kimia penapis UV bukan organik

Titanium dioksida
• terutamanya penapis UVB, tetapi beberapa gred juga memberikan perlindungan UVA yang baik
• Pelbagai gred yang disediakan dengan saiz zarah yang berbeza, salutan dan lain -lain.
• Kebanyakan gred jatuh ke dalam bidang nanopartikel
• Saiz zarah terkecil sangat telus pada kulit tetapi memberikan sedikit perlindungan UVA; saiz yang lebih besar memberi lebih banyak perlindungan UVA tetapi lebih banyak pemutihan pada kulit

Zink oksida
• terutamanya penapis UVA; Keberkesanan SPF yang lebih rendah daripada TiO2, tetapi memberikan perlindungan yang lebih baik daripada TiO2 di rantau panjang gelombang panjang "UVA-I"
• Pelbagai gred yang disediakan dengan saiz zarah yang berbeza, salutan dan lain -lain.
• Kebanyakan gred jatuh ke dalam bidang nanopartikel

Matriks Prestasi / Kimia

Nilai dari -5 hingga +5:
-5: kesan negatif yang signifikan | 0: Tiada Kesan | +5: kesan positif yang signifikan
(Nota: Untuk kos dan pemutihan, "kesan negatif" bermaksud kos atau pemutihan meningkat.)

	Kos	SPF	Uva Perlindungan	Rasa kulit	Pemutihan	Kestabilan foto	Air Rintangan
Benzophenone-3	-2	+4	+2	0	0	+3	0
Benzophenone-4	-2	+2	+2	0	0	+3	0
Bis-ethylhexyloxyphenol methoxyphenyl triazine	-4	+5	+5	0	0	+4	0
Butyl methoxy-dibenzoylmethane	-2	+2	+5	0	0	-5	0
Diethylamino Hydroxy Benzoyl Hexyl Benzoate	-4	+1	+5	0	0	+4	0
Diethylhexyl butamido triazone	-4	+4	0	0	0	+4	0
Disodium phenyl dibenzimiazole tetrasulfonate	-4	+3	+5	0	0	+3	-2
Ethylhexyl Dimethyl Paba	-1	+4	0	0	0	+2	0
Ethylhexyl methoxycinnamate	-2	+4	+1	-1	0	-3	+1
Ethylhexyl salisilat	-1	+1	0	0	0	+2	0
Ethylhexyl Triazone	-3	+4	0	0	0	+4	0
Homosalate	-1	+1	0	0	0	+2	0
Isoamyl p-methoxycinnamate	-3	+4	+1	-1	0	-2	+1
Menthyl anthranilate	-3	+1	+2	0	0	-1	0
4-methylbenzylidene camphor	-3	+3	0	0	0	-1	0
Methylene bis-benzotriazolyl tetramethylbutylphenol	-5	+4	+5	-1	-2	+4	-1
Octocrylene	-3	+3	+1	-2	0	+5	0
Phenylbenzimidazole asid sulfonik	-2	+4	0	0	0	+3	-2
Polysilicone-15	-4	+1	0	+1	0	+3	+2
	-5	+5	+3	-1	-2	+3	-1
Titanium dioksida - Gred telus	-3	+5	+2	-1	0	+4	0
Titanium Dioksida - Gred Spektrum Luas	-3	+5	+4	-2	-3	+4	0
Zink oksida	-3	+2	+4	-2	-1	+4	0

Faktor yang memberi kesan kepada prestasi penapis UV

Atribut prestasi titanium dioksida dan zink oksida berbeza -beza bergantung kepada sifat individu gred tertentu yang digunakan, misalnya. salutan, bentuk fizikal (serbuk, penyebaran berasaskan minyak, penyebaran berasaskan air).Pengguna harus berunding dengan pembekal sebelum memilih gred yang paling sesuai untuk memenuhi objektif prestasi mereka dalam sistem perumusan mereka.

Keberkesanan penapis UV organik larut minyak dipengaruhi oleh kelarutan mereka dalam emolien yang digunakan dalam perumusan. Generally, polar emollients are the best solvents for organic filters.

Prestasi semua penapis UV sangat dipengaruhi oleh tingkah laku rheologi perumusan dan keupayaannya untuk membentuk filem yang koheren pada kulit. Penggunaan pembentukan filem yang sesuai dan bahan tambahan rheologi sering membantu meningkatkan keberkesanan penapis.
Gabungan menarik penapis UV (sinergi)

Terdapat banyak kombinasi penapis UV yang menunjukkan sinergi. Kesan sinergistik terbaik biasanya dicapai dengan menggabungkan penapis yang saling melengkapi dalam beberapa cara, sebagai contoh:-
• Menggabungkan penapis larut minyak (atau minyak) dengan penapis larut air (atau air)

• Menggabungkan penapis bukan organik dengan penapis organik

Terdapat juga kombinasi tertentu yang boleh menghasilkan manfaat lain, contohnya diketahui bahawa octocrylene membantu untuk menstabilkan foto penapis labil tertentu seperti butil methoxydibenzoylmethane.

However one must always be mindful of intellectual property in this area. Terdapat banyak paten yang meliputi kombinasi tertentu penapis UV dan formulator yang dinasihatkan untuk sentiasa memeriksa bahawa gabungan yang mereka ingin gunakan tidak melanggar mana-mana paten pihak ketiga.

Pilih penapis UV yang betul untuk perumusan kosmetik anda

Langkah -langkah berikut akan membantu anda memilih penapis UV yang betul untuk formulasi kosmetik anda:

2. Periksa penapis mana yang dibenarkan untuk pasaran yang dimaksudkan.
3. Jika anda mempunyai casis formulasi tertentu yang anda ingin gunakan, pertimbangkan penapis mana yang sesuai dengan casis itu. Walau bagaimanapun, jika mungkin adalah yang terbaik untuk memilih penapis terlebih dahulu dan merancang perumusan di sekelilingnya. Hal ini terutama berlaku dengan penapis organik bukan organik atau zarah.
dan sasaran UVA.

Gabungan ini kemudiannya boleh dicuba dalam formulasi. Kaedah ujian SPF dan UVA in-vitro berguna pada tahap ini untuk menunjukkan kombinasi mana yang memberikan hasil yang terbaik dari segi prestasi-lebih banyak maklumat mengenai aplikasi, tafsiran dan batasan ujian ini dapat dikumpulkan dengan kursus e-latihan khusus:UVA/SPF: Mengoptimumkan protokol ujian anda

Hasil ujian, bersama -sama dengan hasil ujian dan penilaian lain (contohnya kestabilan, keberkesanan pengawet, rasa kulit), membolehkan formulator memilih pilihan terbaik dan juga membimbing perkembangan selanjutnya dari formulasi.