Penapis UV dalam Pasaran Penjagaan Matahari

Pelindung matahari bukan organik Kekuatan & Kelemahan

Kekuatan	Kelemahan
Selamat / tidak merengsa	Persepsi estetika yang buruk (rasa kulit dan pemutihan pada kulit)
Spektrum luas	Serbuk mungkin sukar untuk diformulasikan
SPF yang tinggi (30+) boleh dicapai dengan satu bahan aktif (TiO2)	Bahan bukan organik telah terperangkap dalam perdebatan nano
Penyebaran mudah digabungkan
Meja Foto

Aplikasi Pelindung Matahari Bukan Organik
Pelindung matahari bukan organik sesuai untuk sebarang aplikasi perlindungan UV kecuali formulasi jernih atau semburan aerosol. Ia amat sesuai untuk penjagaan matahari bayi, produk kulit sensitif, produk yang mempunyai tuntutan "semula jadi" dan kosmetik hiasan.
Penapis UV bukan organik Jenis Kimia

Titanium Dioksida
• Terutamanya penapis UVB, tetapi sesetengah gred juga menyediakan perlindungan UVA yang baik
• Pelbagai gred tersedia dengan saiz zarah, salutan dll yang berbeza.
• Kebanyakan gred termasuk dalam bidang nanopartikel
• Saiz zarah terkecil sangat lutsinar pada kulit tetapi memberikan sedikit perlindungan UVA; saiz yang lebih besar memberikan lebih banyak perlindungan UVA tetapi lebih memutihkan pada kulit

Zink Oksida
• Terutamanya penapis UVA; keberkesanan SPF yang lebih rendah daripada TiO2, tetapi memberikan perlindungan yang lebih baik daripada TiO2 dalam kawasan “UVA-I” panjang gelombang panjang
• Pelbagai gred tersedia dengan saiz zarah, salutan dll yang berbeza.
• Kebanyakan gred termasuk dalam bidang nanopartikel

Matriks Prestasi / Kimia

Kadar dari -5 hingga +5:
-5: kesan negatif yang ketara | 0: tiada kesan | +5: kesan positif yang ketara
(Nota: untuk kos dan pemutihan, "kesan negatif" bermaksud kos atau pemutihan meningkat.)

	Kos	SPF	UVA Perlindungan	Rasa Kulit	Pemutihan	Kestabilan foto	Air Rintangan
Benzofenon-3	-2	+4	+2	0	0	+3	0
Benzofenon-4	-2	+2	+2	0	0	+3	0
Bis-etilheksiloksifenol Metoksifenil Triazina	-4	+5	+5	0	0	+4	0
Butil Metoksi-dibenzoilmetana	-2	+2	+5	0	0	-5	0
Dietilamino Hidroksi Benzoil Heksil Benzoat	-4	+1	+5	0	0	+4	0
Dietilheksil Butamido Triazon	-4	+4	0	0	0	+4	0
Dinatrium Fenil Dibenzimiazol Tetrasulfonat	-4	+3	+5	0	0	+3	-2
Etilheksil Dimetil PABA	-1	+4	0	0	0	+2	0
Etilheksil Metoksisinamat	-2	+4	+1	-1	0	-3	+1
Etilheksil Salisilat	-1	+1	0	0	0	+2	0
Etilheksil Triazon	-3	+4	0	0	0	+4	0
Homosalate	-1	+1	0	0	0	+2	0
Isoamil p-Metoksisinamat	-3	+4	+1	-1	0	-2	+1
Mentil Anthranilat	-3	+1	+2	0	0	-1	0
4-Metilbenzilidena Kamfor	-3	+3	0	0	0	-1	0
Metilena Bis-Benzotriazolil Tetrametilbutilfenol	-5	+4	+5	-1	-2	+4	-1
Oktokrilena	-3	+3	+1	-2	0	+5	0
Asid Fenilbenzimidazol Sulfonik	-2	+4	0	0	0	+3	-2
Polisilikon-15	-4	+1	0	+1	0	+3	+2
Tris-bifenil Triazina	-5	+5	+3	-1	-2	+3	-1
Titanium Dioksida – gred lutsinar	-3	+5	+2	-1	0	+4	0
Titanium Dioksida – gred spektrum luas	-3	+5	+4	-2	-3	+4	0
Zink Oksida	-3	+2	+4	-2	-1	+4	0

Faktor-faktor yang Mempengaruhi Prestasi Penapis UV

Atribut prestasi titanium dioksida dan zink oksida berbeza-beza dengan ketara bergantung pada sifat individu gred tertentu yang digunakan, contohnya salutan, bentuk fizikal (serbuk, penyebaran berasaskan minyak, penyebaran berasaskan air).Pengguna harus berunding dengan pembekal sebelum memilih gred yang paling sesuai untuk memenuhi objektif prestasi mereka dalam sistem formulasi mereka.

Keberkesanan penapis UV organik larut minyak dipengaruhi oleh keterlarutannya dalam emolien yang digunakan dalam formulasi. Secara amnya, emolien polar adalah pelarut terbaik untuk penapis organik.

Prestasi semua penapis UV dipengaruhi secara kritikal oleh sifat reologi formulasi dan keupayaannya untuk membentuk filem yang sekata dan koheren pada kulit. Penggunaan pembentuk filem dan bahan tambahan reologi yang sesuai selalunya membantu meningkatkan keberkesanan penapis.
Gabungan Penapis UV yang Menarik (sinergi)

Terdapat banyak kombinasi penapis UV yang menunjukkan sinergi. Kesan sinergi terbaik biasanya dicapai dengan menggabungkan penapis yang saling melengkapi dalam beberapa cara, contohnya:-
• Menggabungkan penapis larut minyak (atau tersebar minyak) dengan penapis larut air (atau tersebar air)
• Menggabungkan penapis UVA dengan penapis UVB
• Menggabungkan penapis bukan organik dengan penapis organik

Terdapat juga kombinasi tertentu yang boleh menghasilkan manfaat lain, contohnya diketahui umum bahawa oktokrilena membantu menstabilkan foto penapis foto-labil tertentu seperti butil metoksidibenzoilmetana.

Walau bagaimanapun, seseorang mesti sentiasa mengambil berat tentang harta intelek dalam bidang ini. Terdapat banyak paten yang meliputi kombinasi penapis UV tertentu dan perumus dinasihatkan untuk sentiasa menyemak bahawa kombinasi yang mereka ingin gunakan tidak melanggar mana-mana paten pihak ketiga.

Pilih penapis UV yang Tepat untuk Formulasi Kosmetik anda

Langkah-langkah berikut akan membantu anda memilih penapis UV yang betul untuk formulasi kosmetik anda:
1. Tetapkan objektif yang jelas untuk prestasi, sifat estetik dan tuntutan yang dimaksudkan untuk formulasi tersebut.
2. Semak penapis yang dibenarkan untuk pasaran yang dimaksudkan.
3. Jika anda mempunyai casis formulasi tertentu yang ingin anda gunakan, pertimbangkan penapis yang sesuai dengan casis tersebut. Walau bagaimanapun, jika boleh, adalah lebih baik untuk memilih penapis terlebih dahulu dan mereka bentuk formulasi di sekelilingnya. Ini terutamanya benar dengan penapis bukan organik atau organik zarahan.
4. Gunakan nasihat daripada pembekal dan/atau alat ramalan seperti Simulator Pelindung Matahari BASF untuk mengenal pasti kombinasi yang sepatutnyamencapai SPF yang dimaksudkandan sasaran UVA.

Gabungan ini kemudiannya boleh dicuba dalam formulasi. Kaedah ujian SPF dan UVA in-vitro berguna pada peringkat ini untuk menunjukkan kombinasi mana yang memberikan hasil terbaik dari segi prestasi - maklumat lanjut tentang aplikasi, tafsiran dan batasan ujian ini boleh dikumpulkan dengan kursus e-latihan SpecialChem:UVA/SPF: Mengoptimumkan Protokol Ujian Anda

Keputusan ujian, bersama-sama dengan keputusan ujian dan penilaian lain (cth. kestabilan, keberkesanan pengawet, rasa kulit), membolehkan perumus memilih pilihan terbaik dan juga membimbing perkembangan selanjutnya bagi formulasi tersebut.